立式化學氣相沉積(CVD)爐 先進陶瓷
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產品詳情

、設備用途:


用做石墨或碳碳表面的碳化硅涂層、碳碳復合涂層。

用途廣泛 如:

1 碳碳復合涂層:光伏晶體爐的熱場材料

2 石墨涂層:LED藍寶石襯底MOCVD的石墨托盤

、設備特點:

1 立式結構,爐殼用耐腐蝕材料制成。

2 獨特的內罩進排氣結構,熱場溫度均勻性好。

3 氣氛控制精確,真空系統配有過濾器,可選配尾氣處理系統。

4 主要電器元件采用施耐德及歐姆龍品牌,性能穩定、可靠。

5 配備出、裝料料車,方便操作及出裝料,提高工作效率。

、主要技術參數:

No.型號工作區尺寸(?XH)mm高溫度  (℃)真空度   (Pa)

壓升率

 (Pa/h)

溫度均勻性 (℃)功率   (KW)
1ZT-60-15300X50015001-1000.67±1060
2ZT-145-15600X80015001-1000.67±10145
3ZT-220-15800X100015001-1000.67±15220
4ZT-270-151000X150015001-1000.67±20275
5ZT-550-151500X200015001-1000.67±20550

爐膛尺寸可按要求定做

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