臥式化學氣相沉積(CVD)爐
分享到:
在線詢價下單
產品詳情

、設備用途:

化學氣相沉積爐主要用于碳化硅(SIC)及氮化硼(BN)等新材料的制備。

、設備特點:

1 臥式結構,雙爐門結構,爐門啟閉采用氣動方式。

2 雙層爐殼結構,內層不銹鋼,外層為碳鋼,中間通水冷卻。石墨碳棒加熱體,石墨碳氈保溫層保溫效果好。

3 控制方式為PLC加觸摸屏方式,有手動及自動控制切換。自動化程度高,操作方便。

4 主要電器元件采用施耐德及歐姆龍品牌,性能穩定、可靠。

5 配備出、裝料料車,方便操作及出裝料,提高工作效率。

、主要技術參數:

No.型號

工作區尺

(WXHXL)mm

溫度 

(℃)

真空度 

(Pa)

壓升率 

(Pa/h)

溫度均勻性

 (℃)

 (KW) 

1HZT-100-15400X400X60015001-1000.67±20100
2HZT-145-15500X500X75015001-1000.67±20145
3HZT-145-15600X600X90015001-1000.67±20190
4HZT-360-15700X700X200015001-1000.67±20360




— 預約訂購類 —

Copyright ?2020 上海晨華科技股份有限公司 All Rights Reserved.   工信部備案:滬ICP備05006140號-1  滬公網安備 31011402005572號滬公網安備 31011402005572號

久久伊人五月丁香狠狠色